相位掩模版
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相位掩膜版(Phase Mask)是刻写光纤光栅(Fiber Bragg Grating, FBG)的核心工具,其通过干涉原理将周期性结构转移到光纤纤芯中,形成折射率调制,从而制作我们需要的光纤光栅...
我们生产的型号为OEPMP-100的相位掩模版长度可达150毫米,用于光纤布拉格光栅的制作。我们的相位掩模产品包括均匀的,啁啾的,相移的,长相位掩模和样品相位掩模,在DWDM滤波器,光纤传感器,色散补偿,增益平坦,激光二极管稳定器,波导等方面应用。我们的产品覆盖范围从300nm到5000nm的光栅周期。我们独特的制造技术保证了超高的精度周期,非常低的零阶和非常高的均匀性,可与全息相位掩模相媲美
相位掩模版的类型:
多阵列相位掩模版: 用于DWDM光纤光栅,光栅阵列的制作
多相移相位掩模版: 在一个单相掩模中,最多可以实现300个相移
多位置相位掩模版: 用于传感器,波导和多波长光纤光栅的制造
长相位掩模版: 各种类型的相位掩模版长度可达150mm
啁啾相位掩模版: 用于线性啁啾,非线性啁啾及正弦啁啾光纤光栅的制作
不同照明波长: 248 nm, 193 nm, 530 nm, 800 nm…
特征:
周期的精密度可达 1pm
零级 < 5%
长度可达 150mm
最小周期可达100nm
均匀的,啁啾的和相移的
对193 nm, 244 nm, 248 nm, 266 nm, 365 nm, 530 nm, 800 nm的光照进行优化
低价格
相位掩模版的新产品:
1.多相位掩模阵列用于制作4通道、8通道或16通道的DWDM光纤光栅,无需改变相位掩模。 它们在一个基板上具有不同周期的 2、4、8、16 个相位掩模。 多相掩模阵列使光纤光栅制造的设备非常简单。在不改变相位掩模的情况下,可以在一个设备中制作光纤光栅滤波器的 4 到 16 个通道。在写入大量光栅时,这种方法可以节省时间和金钱。 当在单根光纤中写入多个不同波长的光栅时,它特别有用。
2. 多相移相位掩膜是一种具有多达 200 个相移的相位掩模。 它为光纤工程师提供了极大的相位掩模设计自由度。 多相移掩模可以与啁啾相位掩模和均匀相位掩模或甚至两者的组合结合。
3.多位置相位掩模是具有水平方向、垂直方向或两者相结合的相位掩模阵列。例如,如果阵列的每个光纤布拉格光栅都需要在光纤上进行高精度定位,则多位置相位掩模可以解决每个相位掩模与光纤之间的对准问题,并为您提供最佳解决方案。 如果您想制造多波长光纤激光器,多位置相位掩模还可以使您在此光纤激光器制造过程中的工作更加轻松。
产品型号: OEPMP-100
图1. 用于光纤光栅制作的不同长度的相位掩模版
本产品为代售产品,由O-Eland 公司生产.
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